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    新闻

  • [行业新闻] 半导体清洗设备需要具备的基本条件有哪些?

    半导体清洗设备采用超声波震荡的技术实现污垢的超声清洗设备近年来逐步成为司空见惯的清洁技术,特别是在一些孔径结构较为明显的材料清洁之中,使用超声清洗设备更是能够提高实际清洁的效率和清洁品质,也只有具备优质的条件和更好的功能,才能够确保这种超声
    发布时间:2019-06-19   点击次数:21

  • [行业新闻] 半导体清洗设备的七大用途及优点

    半导体清洗设备用途1、眼镜、光学仪器:一切光学镜片,如各种眼镜、放大镜、望远镜、显微镜、相机、摄像机等之镜头零件等经超声波清洗后,所有世间真情尽显无遗。2、玉石、饰物加工行业:在研磨抛光等加工过程中,大量粉尘污物会沾附在玉石、饰物上,而这些
    发布时间:2019-06-25   点击次数:18

  • [行业新闻] 半导体清洗设备电源如何使用

    半导体清洗设备的电源又称超声波电源,它的作用是把我们的市电(220V或380V,50或60Hz)转换成换能器相匹配的高频交流电信号。从放大电路方式,能够采用线性放大电路和开关电源电路,大功率超声波电源从转换效率方面思索普通采用开关电源的电路
    发布时间:2019-06-25   点击次数:14

  • [行业新闻] 半导体清洗设备对人的影响

    半导体清洗设备超声波是一种频率高于20000赫兹的声波,人耳基本听不到。超声波在液体中传播,使液体,与清洗槽在超声波频率下一同振动,液体与清洗槽振动时有本人固有频率,这种振动频率是声波频率,所以人们就听到嗡嗡声,对人体不会有什么伤害。半导体
    发布时间:2019-06-25   点击次数:16

  • [行业新闻] 半导体清洗设备专业的效果

    半导体清洗设备专业的效果半导体清洗设备的原理是由超声波发作器所发出的高频震荡讯号,经过换能器转换成高频机械振荡而传播到清洗液中,超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射,使液体活动而产生数以万计的微量小气泡,这些气泡在超声波纵向传播成的负压区构成
    发布时间:2019-06-25   点击次数:16

  • [行业新闻] 半导体清洗设备的工作原理是什么?

    半导体清洗机厂家鑫福顺工业设备引见半导体清洗机是一种常用的清洗设备,应用半导体停止物体清洗。随着清洗行业的不时开展,越来越多的行业和企业运用到了半导体清洗机。半导体清洗机的工作原理是什么呢?半导体清洗机厂家鑫福顺通知您。半导体清洗机原理主要
    发布时间:2019-06-25   点击次数:17

  • [行业新闻] 如何正确运用半导体清洗设备

    超声波换能器将高频振荡电讯号转换成高频机械振荡,以纵波的方式在清洗液中辐射。在辐射波扩张的半波期间,清洗液的致密性毁坏并构成无数直径为50-500μm的气泡。这种气泡中充溢着溶液蒸汽。在紧缩的半波期间,气泡讯速闭合,会产生上百Mpa的部分液
    发布时间:2019-06-25   点击次数:17

  • [行业新闻] 工业半导体清洗设备分类及运用须知

    清洗工作在日常生活中是必不可少的,传统的清洗工艺操作简单,多半是用手工方式来处理。现往常随着工业的高速开展,各种清洗设备成了企业的必备产品,也就开展成为往常的家用清洗、工业超声波清洗设备、实验室超声波清洗机等。下面西安鑫福顺工业设备有限公司
    发布时间:2019-06-25   点击次数:20

  • [行业新闻] 半导体清洗设备需要具备的基本条件有哪些?

    采用超声波震荡的技术实现污垢的半导体清洗设备近年来逐步成为司空见惯的清洁技术,特别是在一些孔径结构较为明显的材料清洁之中,使用半导体清洗设备更是能够提高实际清洁的效率和清洁品质,也只有具备优质的条件和更好的功能,才能够确保这种半导体清洗设备
    发布时间:2019-06-25   点击次数:14

  • [行业新闻] 半导体清洗设备使用窍门你都知道吗?

    半导体清洗设备的清洗液可以循环使用,这种清洗方式可以节约大量的清洗液,每次使用完清洗机后,尽量将清洗液放入容器中,下次使用时再倒入清洗槽,余下的沉淀物可处理掉。如清洗液的浓度不够时,适量加入一点即可重复使用。使用半导体清洗设备应注意什么问题
    发布时间:2019-07-08   点击次数:3

  • [行业新闻] 半导体清洗设备有哪些优势和原理?

    随着科学技术的高速发展,超声技术已越来越多地应用于人们的生产和生活的各个领域。从超声测厚到超声诊断、治疗,超声波焊接,它已为人们所熟悉。但超声设备在清洗行业的应用,人们还不够熟悉和了解。半导体清洗技术早期出现于20世纪30年代早期,当时,位
    发布时间:2019-07-09   点击次数:4

  • [行业新闻] 半导体清洗设备具有怎样的优势

    半导体清洗设备被工业认为是有效和有效的清洁方法。其清洁效率超过98%,清洁清洁度也很高。传统手工清洗和有机溶剂清洗的清洗效率仅为60%-70。即使气相清洗和高压水射流清洗的清洗效率低于90%。因此,工业工业超声波清洗机效率高,效果好,适合大
    发布时间:2019-07-11   点击次数:4

  • [行业新闻] 半导体清洗设备使用时需注意哪些事项

    在使用半导体清洗设备的时候重要的就是要保障清洁设备在具体的操作中稳定性,这样在长时间的使用中不会因为电机过热而产生质量上的损坏,需要对材料的使用进行一定的处理确保在工作中有效性。半导体清洗设备在使用中有一定的操作标准,在进行操作的过程中尽量
    发布时间:2019-07-12   点击次数:1

  • [行业新闻] 半导体清洗设备的使用频率及空化作用

    半导体清洗设备在工作的过程中其频率是很低的,这样就会产生噪音,在运行时当频率低于20kHz时,在进行工作的过程中其噪音不仅变的很大,在一定程度上也可能会超出职业安全和保健法或其它条例所规定的安全噪音的限度。在需要高功率去除污垢而不用考虑工件
    发布时间:2019-07-18   点击次数:4

  • [行业新闻] 工业半导体清洗设备分类及使用须知

    清洗工作在日常生活中是必不可少的,传统的清洗工艺操作简单,多半是用手工方式来解决。现如今随着工业的高速发展,各种清洗设备成了企业的必备产品,也就发展成为如今的家用清洗、工业超声波清洗设备、实验室超声波清洗机等。下面小编就为大家介绍下工业半导
    发布时间:2019-09-01   点击次数:8

  • [行业新闻] 半导体清洗设备的秘密|空化效应的影响因素

    半导体清洗设备清洗作用的实现,主要是靠“空化效应”。故“空化”效果之优劣,能左右机器性能;而机器性能高下则决定清洗效果。欲达清洗目的,应追其根溯其源,因此对空化效应之影响因素,不可不察也。半导体清洗设备清洗液中即使通入超声波,并不一定能够产
    发布时间:2019-07-25   点击次数:5

  • [行业新闻] 半导体清洗设备对物体表面污垢的清洗形式

    采用高压水射流的半导体清洗设备在对物体表面垢层进行清洗工作时,其影响主要通过以下几个方面表现出来:1、水射流的穿透和渗入,引起垢层材料裂纹的扩展,加剧了垢层的破碎;2、半导体清洗设备高压水射流的切力和拉力作用对垢层产生的脆性破坏作用;3、水
    发布时间:2019-07-26   点击次数:3

  • [行业新闻] 半导体清洗设备清洗的原理是什么呀?

    现在大家都知道半导体清洗设备非常好用,所以半导体清洗设备的应用范围变得越来越宽泛,而且经过不断改进完善的新型设备也在逐渐取代老型号,为各个领域提供效果好的清洗。那么多样化的半导体清洗设备能够拥有良好效果主要是因为它会起到产生哪些原理呢?原理
    发布时间:2019-07-29   点击次数:3

  • [行业新闻] 引领清洗行业机械化之半导体清洗设备

    半导体清洗机设备是通过动力装置使高压泵把普通压力的水转换成高压水,再经过高压管路达到控制装置(高压水枪)由高压喷嘴把高压水转换成高压水射流冲洗物体表面,当水的冲击力大于污垢与物体的表面附着力时,高压水射流就会将污垢剥离、冲走,从而达到清洗物
    发布时间:2019-08-01   点击次数:3

  • [行业新闻] 简述半导体清洗设备是如何工作的

    相信大家都会半导体清洗设备的清洗效果有了一定的认识。我们都知道半导体清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。下面为大家讲解一下半导体清洗设备是如何工作
    发布时间:2019-08-02   点击次数:4

  • [行业新闻] 半导体清洗设备清洗换热器时所需注意的事项

    半导体清洗设备清洗的对象可谓非常广泛,不同的清洗对象都有不同的清洗要求,当我们清洗换热器列管时,同样需要在很多方面加以注意,然而我们的工作人员如果不按照要求去做,就有可能会酿成不必要的事故。那么,在具体的清洗过程中,如何操作才是正确的做法呢
    发布时间:2019-08-05   点击次数:4

  • [行业新闻] 半导体清洗设备能做到无损清洗的原因

    由于清洗要求的逐渐提高,半导体清洗设备的使用也越来越多,为了能让设备与需求更加相符,无损清洗的理念被推出。也就是说,利用半导体清洗设备清洗的时候,不仅要体现出良好的清洗效果,还要更好的保护好清洁表面的安全性。为了达到这样的目标,半导体清洗设
    发布时间:2019-08-12   点击次数:4

  • [技术知识] 国产半导体清洗设备产业深度分析

    01清洗环节重要性日益凸显,半导体清洗设备成为主流随着集成电路制程工艺节点越来越先进,对实际制造的几个环节也提出了新要求,清洗环节的重要性日益凸显。清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避
    发布时间:2019-08-16   点击次数:4

  • [行业新闻] 影响着半导体清洗设备的清洗作用的因素

    一般运用半导体清洗设备清洗作业时,要了解半导体清洗机特性才调抵达非常好的清洗作用。半导体清洗设备的清洗进程包含四个基本要素,这四个要素分别是:污染物、介质、基体和清洗作用力。可是咱们注重的疑问是——半导体清洗设备打出的水流清洗作用究竟如何?
    发布时间:2019-09-22   点击次数:1

  • [行业新闻] 国产半导体清洗设备产业深度分析

    随着集成电路制程工艺节点越来越先进,对实际制造的几个环节也提出了新要求,清洗环节的重要性日益凸显。清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为
    发布时间:2019-10-09   点击次数:18

  • [行业新闻] 半导体清洗设备市场竞争格局解析

    全球来看,2017年全球半导体清洗设备整体空间在25-30亿美元。同时,伴随着工艺节点的上升,半导体清洗设备用量需求持续增加。比如:以前主要是90纳米、45纳米,目前主流变成28纳米及14纳米,伴随着particle采取的技术的工艺节点向下
    发布时间:2019-10-31   点击次数:8

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