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芯片半导体清洗用水要求及设备介绍

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芯片半导体清洗用水要求及设备介绍

发布日期:2019-06-18 作者: 点击:


随着电子工业的发展,在芯片半导体的生产加工过程中,对于水质的要求也越来越高。半导体清洗设备厂家为了确保生产出超大规模的集成电路,除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外,超纯水也是其中关键的因素之一。

半导体清洗设备中的杂质对电阻率的影响非常大。半导体中掺入微量杂质时,杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。


芯片清洗设备


一.半导体芯片清洗设备水质标准

半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

二.半导体清洗超纯水设备制备工艺

1、半导体清洗设备预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

3、预处理→一级反渗透→加药机(pH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

三.半导体清洗超纯水设备应用领域

1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

2.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

3.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

4.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

5.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

6.晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

7.集成电路生产中高纯水清洗硅片

8.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

10.半导体清洗设备高品质显像管、萤光粉生产

11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

12.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

13.实验室和中试车间

14.汽车、家电表面抛光处理

15.光电产品、其他高科技精微产品


本文网址:http://www.semi-xfs.com/news/386.html

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